Intel обещает освоить 1,4-нм техпроцесс к 2029 году

МЕНЮ


Искусственный интеллект
Поиск
Регистрация на сайте
Помощь проекту

ТЕМЫ


Новости ИИРазработка ИИВнедрение ИИРабота разума и сознаниеМодель мозгаРобототехника, БПЛАТрансгуманизмОбработка текстаТеория эволюцииДополненная реальностьЖелезоКиберугрозыНаучный мирИТ индустрияРазработка ПОТеория информацииМатематикаЦифровая экономика

Авторизация



RSS


RSS новости

Новостная лента форума ailab.ru


На прошлой неделе из уст главы Intel звучали очередные обещания вернуть «закон Мура» на старые рельсы, что позволило бы переходить на новый техпроцесс каждые два или два с половиной года. На конференции IEDM выяснилось, что Intel выбирает более высокий темп для смены техпроцессов на ближайшие десять лет. Например, если 5-нм техпроцесс будет освоен к 2023 году, то к 2029 году компания рассчитывает перейти к 1,4-нм технологии.

Источник изображения: AnandTech

Источник изображения: AnandTech

Представителю сайта AnandTech удалось запечатлеть этот слайд из презентации Intel на конференции IEDM. Становится очевидно, что из диапазона от двух до двух с половиной лет компания выбрала более амбициозный вариант при определении периодичности смены техпроцессов. Как ранее заявляли представители процессорного гиганта, архитектурные решения не должны быть привязаны к конкретной ступени литографии. На указанном слайде этот принцип реализован в возможности перенести продукты, изначально запланированные к выпуску по более прогрессивной технологии, «на шаг назад» к предыдущему техпроцессу.

Внедрить литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV), как уже отмечалось, компания Intel собирается в 2021 году в рамках 7-нм техпроцесса. Глава Intel недавно подтвердил, что первый 7-нм продукт выйдет в конце 2021 года. В своём развитии каждый техпроцесс должен пройти три фазы. Через год после дебюта должна появляться вариация с одним «плюсом» в условном обозначении, через два года — с двумя «плюсами». В тот же год должен реализоваться переход на более продвинутые литографические нормы, их освоение будет идти с перекрытием.

Что характерно, на 2023 год намечено освоение неких новых «литографических функций». Если учесть, что этот период в графике Intel ассоциируется с освоением 5-нм технологии, а ASML к тому моменту начнёт поставки литографических сканеров нового поколения, то речь наверняка идёт о EUV-литографии с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV). Кроме того, на пути к освоению 1,4-нм техпроцесса Intel вынуждена будет экспериментировать с использованием новых материалов и полупроводниковых структур. Главное, чтобы в конце этого пути компания не стала жертвой своих амбиций в очередной раз, как это случилось в истории с 10-нм техпроцессом.


Источник: 3dnews.ru

Комментарии: